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  • GMD2000/4防黏劑研磨分散機(jī)
    防黏劑研磨分散機(jī)

    防黏劑研磨分散機(jī)GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳

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  • GMD2000/4納米級(jí)凍膠研磨分散機(jī)
    納米級(jí)凍膠研磨分散機(jī)

    GMD2000系列納米級(jí)凍膠研磨分散機(jī)是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。

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  • GMD2000/4管線式濕法研磨分散機(jī)
    管線式濕法研磨分散機(jī)

    管線式濕法研磨分散機(jī)的特點(diǎn) 1更穩(wěn)定采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證. 2新結(jié)構(gòu)通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目. 3更可靠采用整體式機(jī)械密封,*上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.

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  • GMD2000粉底液超高速研磨分散機(jī)
    粉底液超高速研磨分散機(jī)

    【粉底液超高速研磨分散機(jī)的工作原理】 粉底液研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

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  • GMD2000管線式超高速石墨烯研磨分散機(jī)
    管線式超高速石墨烯研磨分散機(jī)

    【 管線式超高速石墨烯研磨分散機(jī)的特點(diǎn)】 ① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨 ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。 ③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 ④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

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  • GMD2000管線式催化劑研磨分散機(jī)
    管線式催化劑研磨分散機(jī)

    管線式催化劑研磨分散機(jī),F(xiàn)GG催化劑研磨分散機(jī),催化劑研磨機(jī),催化劑分散機(jī),Z高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。此款研磨分散機(jī)比普通的分散機(jī)機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好。 在做納米粉體分散或研磨時(shí),因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響,是濕法研磨分散方法

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  • GMD2000管線式電子廢液研磨分散機(jī)
    管線式電子廢液研磨分散機(jī)

    【GMD2000系管線式電子廢液研磨分散機(jī)列的特點(diǎn)】 ①具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。 ②該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。 ③三級(jí)研磨分散機(jī)由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

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  • GMD2000超高速納米研磨分散機(jī)
    超高速納米研磨分散機(jī)

    超高速納米研磨分散機(jī),高剪切超細(xì)研磨分散機(jī),超細(xì)乳化設(shè)備,進(jìn)口研磨分散機(jī),對(duì)于研磨分散機(jī)來說Z大的一個(gè)目的就是要達(dá)到乳化的效果,那么從設(shè)備角度來說影響乳化效果的因素有哪些呢? 1、乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好) 2、乳化頭的剪切速率(越大,效果越好) 3、乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好) 4、物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作

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